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你的位置: 临汾潜涤电子有限公司 > 弯曲传感器 >音讯称三星电子测试 TEL 公司 Acrevia GCB 拓荒以编削 EUV 光刻工艺
发布日期:2024-09-04 11:10 点击次数:160
IT之家 9 月 3 日音讯,据韩媒 The Elec 昨日报说念,三星正对 Tokyo Electron (TEL) 的 Acrevia GCB 气体团簇光束(IT之家注:Gas Cluster Beam)系统进行测试。
TEL 的 Acrevia GCB 系统发布于本年 7 月 8 日,可通过气体团簇光束对 EUV 光刻图案进行局部精准整形,从而设立图案盘曲、贬低图案毛糙度。
业内东说念主士觉得 TEL 的 Acrevia 系统可起到与支配材料 Centura Sculpta 系统近似的作用,即平直对 EUV 曝光图案塑形,减少老本崇高的 EUV 多重曝光,进而裁减光刻经过并普及举座利润率。
此外 Acrevia 系统还可用于排斥在 EUV 光刻非常中占约一半的连忙非常,普及居品良率。
TEL 联系东说念主士暗示潜在客户如实正在进行 Acrevia 系统测试,该拓荒展望将领先用于逻辑代工而非存储器范畴。
此前三星电子已在 4nm 工艺上对支配材料的 Centura Sculpta 进行了测试,如今又测试 TEL 的拓荒,旨在加强两泰半导体拓荒供应商间的图案塑形订单竞争。
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